EUV
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三星研发下一代EUV关键技术 良率大增
三星电子已开始开发先进的极端紫外线(EUV)pellicle,以缩小与制造竞争对手台积电的市场份额差距。 该公司的半导体研究所最近发布了一份招聘通知,以开发一种满足92%的EUV透…
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euv和duv区别(duv光刻机)
euv和duv区别: 1、制程范围不同。duv:基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,却无法达到10nm以下。euv:能满足10nm以下的晶圆制造,并…
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追赶台积电!三星推动开发高端EUV薄膜
光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开一层薄膜,然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染,减少光掩模的损坏。 …